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OASIS Repository@POSTECHLIBRARY
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Article
Direct Pattern Transfer Using an Inorganic Polymer-derived Silicate Etch Mask
SCIE
SCOPUS
JOURNAL OF MATERIALS CHEMISTRY, vol. 21, no. 12, page. 4657 - 4662, 2011-03
Fang, QL
;
Li, XD
;
Tuan, AP
;
Perumal, J
;
Kim, DP
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