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ALCVD를 이용한 Hf-silicate, Ti-silicate 게이트 산화막 성장 및 특성 연구
- Title
- ALCVD를 이용한 Hf-silicate, Ti-silicate 게이트 산화막 성장 및 특성 연구
- Authors
- 용기중
- Date Issued
- 2006-10-27
- Publisher
- 화학공학회
- Article Type
- Conference
- Citation
- 한국화학공학회 2006년 가을 학술대회, 2006-10-27
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- 용기중YONG, KIJUNG
- Dept. of Chemical Enginrg