He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과
- Title
- He/O2 플라즈마 전처리를 통한 산화막 계면 특성 개선 효과
- Authors
- 이시우
- Date Issued
- 2000-10-20
- Publisher
- 한국화학공학회
- URI
- https://oasis.postech.ac.kr/handle/2014.oak/76174
- Article Type
- Conference
- Citation
- 한국화학공학회지, page. 4689, 2000-10-20
- Files in This Item:
- There are no files associated with this item.
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.