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OASIS Repository@POSTECHLIBRARY
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Article
Hydrogen Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of Ru with Low Oxygen Content
SCIE
KCI
Korean Journal of Chemical Engineering, vol. 41, no. 4, page. 1249 - 1254, 2024-02
Park, Geonwoo
;
Kim, Keunhoi
;
Shin, Jeong Woo
;
Han, Geongu
;
Go, Dohyun
;
et al
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